臺(tái)積電宣布10nm工藝完工 下一目標(biāo)是7nm/5nm

時(shí)間：2016-07-18作者：深圳芯易科技有限公司瀏覽：103

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 打臉！臺(tái)積電10nm相當(dāng)于英特爾12nm？

  *得蘋果A10訂單的臺(tái)積電正歡呼雀躍的時(shí)候，有一個(gè)巴掌重重地打了過(guò)來(lái)：此前宣布的10nmFinFET工藝，居然只相等于英特爾的十二納米；那么，事實(shí)到底是怎么樣的呢？ 前不久的股東大會(huì)上，臺(tái)積電CEO劉德音被美國(guó)分析師Brett Simpson（布雷特·辛普森）的一個(gè)問(wèn)題難住了：Brett Simpson竟然問(wèn)臺(tái)積電7nmFinFET工藝比起英特爾即將量產(chǎn)的10nm工藝，在性能特征上的差距。 “你得

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