上海伯東KRI離子源在半導體材料中的預清洗及刻蝕應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀真空鍍膜配氣面板檢漏
氦質譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實現工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個配氣面板也需要測試整體漏率, 使用上海伯東德國 Pfeiffer?氦質譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設置為 5.5x
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質膜
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM