美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測某客戶生產汽車過濾網, 因高溫真空燒結爐氣密性不佳, 導致生產出的過濾網材料出現氧化質量問題, 經過上海伯東推薦, 選用氦質譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結爐進行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經過檢漏后的真空爐, 生產出的過濾網材料無氧化, 達到客戶工藝要求.高溫真空燒結爐氦質譜檢漏法:金屬 (粉末)
KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜
硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉換效率低和由 S-W 效應引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導率、較高載流子遷移的電學性質及優良的光學穩定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應的尾氣處理裝置, 有利于降低設備成本, 且工藝參數控制, 因此經過
氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足第三代半導體芯片量產
氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產上海伯東某客戶是一家以先進化合物半導體光電器件相關產品衍生智造為主業的創新型科技公司, 核心產品是物聯網, 5G 通訊, 安防監控等*三代半導體芯片. 芯片在生產過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態, 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質膜