KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：98

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• 氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏

  氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國 Pfeiffer 某客戶需要對體積 >1000L 的熱交換器進行檢漏, 熱交換器內部管子細長, 流導小, 需要盡可能的快速測試并要求清潔無油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質譜檢漏儀 ASM 390, 實現快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)

• KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產的車用抬頭顯示?HUD?正在從風擋型?W-HUD?逐漸向增強現實型的?AR-HUD?發展：從單純的信息展示屏幕,

• KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

  ??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現可見光區（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM

• KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用

  上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污