分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：195

伯東企業(yè)（上海）有限公司專(zhuān)注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閥門(mén)用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):?-?閥門(mén)主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• 氦質(zhì)譜檢漏儀熱交換器檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國(guó) Pfeiffer 某客戶(hù)需要對(duì)體積 >1000L 的熱交換器進(jìn)行檢漏, 熱交換器內(nèi)部管子細(xì)長(zhǎng), 流導(dǎo)小, 需要盡可能的快速測(cè)試并要求清潔無(wú)油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, 實(shí)現(xiàn)快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)

• KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

  上海伯東代理美國(guó)?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等！KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污

• HVA 真空閥門(mén) 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門(mén)?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美