熱絲CVD金剛石解決方案

時間：2022-06-04作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司瀏覽：1035

鵬城半導體技術（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

• 詞條

  詞條說明

• 化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰巹t形狀的散片、φ2～4

• PVD真空鍍膜設備行業分析

  一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損

• 新一代半導體技術-真空鍍膜技術的現狀及發展趨勢

  摘要：隨著可持續發展觀的深入普及和社會經濟的快速發展，經濟與環保協同發展成為當下企業發展和科技創新的主要趨勢。傳統的通電鍍膜技術會產生較大的污染，且鍍膜質量不高，經濟效益低下，已逐漸退出歷史舞臺，取而代之的是技術較加**、鍍膜質量較加優秀的真空鍍膜技術。真空鍍膜技術始于20世紀30年代，當前真空鍍膜技術已從實驗室走向了工廠，實現了大規模生產，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業領域得到了廣泛的應用

• 創芯未來 鵬城半導體亮相第四屆全球半導體產業博覽會（重慶）

  6月帶著憧憬與期待，在重慶這片沃土上與我們相遇，未來，初心依舊。*四屆**半導體產業（重慶）博覽會（簡稱“GSIE 2022”），將于2022年6月29日-7月1日在重慶**博覽中心舉辦。鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱“鵬城半導體”）本次攜多功能磁控濺射儀解決方案、分子束外延薄膜生長設備（MBE）解決方案、熱絲CVD金剛石解決方案等多個解決方案亮相本次展會。一起來先讀為快吧。多功能磁控濺射儀