鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業發展論壇

時間：2023-05-25

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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熱烈祝賀鵬城半導體獲得第六屆中國·湖州全球高層次人才創新創業大賽一等獎
4月16日，“才聚西塞山青創南太湖”*六屆中國·湖州**高層次人才創新創業大賽暨深圳城市賽正式開賽，前期共征集20多個高層次人才創業項目，經過層層篩選，共有9個項目進入本次城市賽，涉及新能源、新材料、生命健康、AI智能等多個領域。鵬城半導體技術（深圳）有限公司-副總經理孔博士經過激烈的角逐，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）-“大尺寸金剛石晶圓片產業化項目”“斬獲了本次城市賽的一
第十七屆全國MOCVD學術會議與您太原相見！
2022年8月15日-18日，2022十七屆全國MOCVD學術會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積（MOCVD）技術自二十世紀六十年代提出以來，取*得了飛速進步，已經廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結構，較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發展及產業化，也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結構材料及相
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世界范圍的信息化浪潮正帶來**網絡化、國家數字化、社會智能化的整體轉變，5G、人工智能、大數據和云計算等**技術的誕生和蓬勃發展，以及向生產生活各層面的深度滲透，較加速推動信息時代的快速發展。在世界數字化洶涌前行的背后，是硅基半導體芯片能的持續飛速提升，提供了存儲、運算、網絡、智能的多維度底層支撐，為數字升級、智能互聯打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限，硅基半導體芯
等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了