陽江貴金屬靶材廠

時間：2024-09-20作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：338

東莞市鼎偉新材料有限公司專注于鈦鋁靶,鉻鋁靶,鎳鉻合金靶,鎢鈦合金靶材,鎳釩合金靶,高純鉻靶等, 歡迎致電 18681059472

• 詞條

  詞條說明

• 高純鉻靶的發展前景

  高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，目標材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材，細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快，而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔，但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電，從而產生雜質顆粒。 此外，由于其密度低，在

• 氧化銦鎵鋅靶材

  氧化銦鎵鋅靶材：透明導電薄膜的核心材料 氧化銦鎵鋅（IGZO）靶材是一種重要的功能材料，主要用于制備高性能透明導電薄膜。這種材料在顯示技術、半導體器件和柔性電子領域具有廣泛的應用前景。 IGZO靶材的核心優勢在于其優異的電學性能和光學特性。相比傳統的氧化銦錫（ITO），IGZO具有更高的載流子遷移率，能夠實現更快的電子傳輸速度，同時保持較高的可見光透過率。這一特性使其成為高分辨率顯示器的理想選擇

• 氧化錫銻靶材

  氧化錫銻靶材：光電領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域，氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢，成為制備透明導電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成，在可見光區透光率超過85%，電阻率可低至10^-4Ω·cm量級，完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當高能粒子轟擊靶材表面時，錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上，通過精確控制濺射功率、氣

• 河源高純鉻靶批發價格

  河源高純鉻靶批發價格河源高純鉻靶是一種用于PVD（物理氣相沉積）技術生產薄膜的材料，具有高純度、均勻的化學成分和良好的加工性能及穩定性。在半導體制造、光學鍍膜、磁盤制造等領域有廣泛應用。河源高純鉻靶廠家提供的高純鉻靶可以滿足各種客戶的需求，具有優異的物理和化學性質，以及穩定的加工工藝。河源高純鉻靶批發價格優勢顯著。作為專業生產高純金屬材料的公司，河源高純鉻靶廠家具有豐富的生產經驗和先進的生產設備，