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?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機
KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器,半導體,光電,集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發,旨在確保質量及可靠性,并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面,臺面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動,三個方向均可在真空環境下精密移位調節,其中X
掃描探針顯微鏡是目**種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應用于物理、化學、生物、醫學等基礎研究領域,還在微納制造和微電子等的應用研究領域中發揮著越來越重要的作用。然而,目前商業化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對單一,難以實現一些較為復雜的實驗及檢測功能。? ? 例如,在特殊環境下(如真空或輻射環境)的微觀磨損實驗中,若采用單一探針模式,在完成磨損實驗后,需
小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多,今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術加上**的數學算法,進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導磁
公司名: 鄭州科探儀器設備有限公司
聯系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區鄭州**產業開發區西三環路289號6幢11單元3層73號
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網 址: zzketan.b2b168.com
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