KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
分子泵組應用于紅外原位分析平臺
Pfeiffer?分子泵組應用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態反應過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設備, 由原位吸附高真空系統, 低溫系統, 氣液物料, 探針凈化控制系統和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復雜反應過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預處理, 可在高真空
KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜
立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用
上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用
? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內有高而均勻的透過率,?是一種的優良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統.?&nbs
HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統
激光是一種很奇妙的?”物質”,?是人類繼原子能、計算機和半導體之后人類的又一偉大發現.人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因